構造フレームのレベルを調整する方法は始端/終端のレベルオフセットパラメータに
入力する方法とzオフセットパラメータに入力する方法があります。
どちらも見た目としては構造フレームの高さが同じように変わります。
ただ基本的にzオフセットに入力してモデル作成をすることが多いです。
ではそれぞれのパラメータはどんな違いがあるのか?
気になったので調べてみました。
↓まずAutodeskのヘルプページ。
https://www.autodesk.co.jp/support/technical/article/caas/sfdcarticles/sfdcarticles/JPN/What-is-the-difference-between-Start-End-Level-Offset-and-Z-Offset-Value-for-structural-framing.html
何やら少し難しいですが解析モデルに影響がありそうです。
解析線が配置したレベル上にありオフセット値を変えても
解析線はレベル上から動きません。
解析線が構造フレーム上にあり、オフセット値を変えると
構造フレームと一緒に動きました。
この解析線は各躯体の接合等で影響してきます。
たまに構造フレームが近くや真上の柱などの要素に意図せず接合されたり
することがあるかと思いますがこれは先述の解析線が同じレベル上に
ある要素に自動で接合されるためです。
そんな問題はありますが。。。
それ以上に構造フレームの位置が変わるたびに接合等で重要な解析線が動いたり、
配置基準のレベルが同じでも天端のレベルが違うと
それぞれの高さで解析線が存在したり。。
それでは正確なモデルが作れない。なんてことにも成りかねません。
だから基本的にzオフセットに入力するのか、と納得できました。
もっともAutodeskのヘルプページにもあるように断面回転を設定する場合は
始端/終端レベルオフセットに入力する事もあります。
始端/終端レベルオフセットに入力する事もあります。
また私見ですが構造と完全に切り離して配置したい時などは始端/終端レベルオフセットに
入力するのも選択肢かもしれません。
まだまだ色々探っていきたいと思います。
Y.N
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